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产品图片 产品名称/型号 产品描述
  • 1200℃双温区CVD系统
    CVD管式炉设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产,CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外,现在正在使用在许多行业,包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。
  • 1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统
    产品用途:此款CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结真空淬火退火,快速降温等工艺实验。
  • 1200℃集成型自动小型PECVD系统
    PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所希望的薄膜。集成型PECVD系统PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系统PECVD-12IH-4Z/G
  • 1200度小型PECVD系统
    PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所希望的薄膜。集成型PECVD系统PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系统PECVD-12IH-4Z/G
  • 1200℃滑动式单温区管式电炉
    一、操作便捷性:1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成损坏的可能。
  • 质量流量控制系统
    操作便捷性:1、方便的气路快速连接口,简化了流量控制系统与其他设备的链接。2、配置有三种接口(宝塔式接口、双卡套式接口、KF接口),方便组合多种连接方式。

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