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CVD管式炉的应用领域以及特点

点击次数:2179    发布时间:2020-01-03
  CVD管式炉应用领域:
 
  广泛适用于高、中、低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理.
 
  产品特点:
 
  专门设计用于高温材料沉积之用。 硅钼棒加热、刚玉炉管炉膛, 可预抽真空,便于通入参加反应的气体, CVD管式炉进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构。具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动孝升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。
 
  1、外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。
 
  2、控制台采用智能PID数显控制器、稳定性好、精度高,配有电流表、结构新颖。
 
  3、炉门采用加厚、加固处理,防止变形
 
  4、炉衬采用高纯氧化铝和保温棉,保温效果好
 
  5、炉膛温度时时检测功能(不加热情况下同样显示炉膛实际温度,便于随时观察炉膛温度情况)。具有过载保护和短路保护
 
  6、炉壳选用钢板折边焊接制成,工作室为耐火材料制成的炉膛,加热元件置于其中,炉与壳间用保温材料砌筑。
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