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这些有关小型PECVD系统的特点,您知道几点?

点击次数:452    发布时间:2020-06-08
  小型PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积反应温度降低,普通CVD设备的沉积温度大多在900℃左右,而在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离,形成等离子体,利用等离子体的活性来促进反应,可以使化学气相沉积的温度降到400℃左右,所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统。
 
  该型号PECVD综合了国内大多数厂家的PECVD系统的优点,触摸屏集中一键控制,实验证明此结构沉积速度快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。而且控制部分采用了成仪自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统,使得操作更加简便,功能更加强大。
 
  产品用途:
  小型PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所希望的薄膜。

  主要特点:
  1、智能气路通断:每路气体均可定时通断,自由切换,省时省力;
  2、射频功率的定时控制:预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间,自动运行;
  3、整机结构融为一体:整机长度只有1.5米,移动方便,避免分散组装的困扰。
  4、AIO控制系统:加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控,协调控制:成仪AIO控制系统;
  5、炉膛移动速度可调:根据实验要求,用户可设定炉膛左右移动的速度和距离,在沉积结束后炉膛可自动移开沉积区,使样品快速冷却;
  6、管内真空度自动平衡:管内真空度实时监测,自动平衡。PECVD工艺要求石英管内真空度通常在0.1~100Pa之间,该型号PECVD的AIO控制系统会通过真空泵的自动启停来维持用户设定的管内真空度,使成膜效果达Z佳的均匀性。
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